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六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設備 工業烘箱

六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設備 工業烘箱

簡要描述:

六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設備的作用是勻膠前襯底“增附"處理。在光刻中,通常會用到一些例如藍寶石、氮化鎵、砷化鎵甚至是貴金屬薄膜等襯底,這類襯底與光刻膠的粘附性往往不怎么理想,這會導致后續的光刻顯影環節出現“裂紋"甚至是漂膠等問題。因此必須通過工藝手段改善,這個步驟我們叫做增附處理或者叫做助黏。

六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設備的作用

    六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理的工藝是勻膠前襯底“增附"處理。在光刻中,通常會用到一些例如藍寶石、氮化鎵、砷化鎵甚至是貴金屬薄膜等襯底,這類襯底與光刻膠的粘附性往往不怎么理想,這會導致后續的光刻顯影環節出現“裂紋"甚至是漂膠等問題。因此必須通過工藝手段改善,這個步驟我們叫做增附處理或者叫做助黏。

六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設備的性能  


HMDS藥液低液位報警:

自動吸取HMDS:

可自動添加HMDS:

HMDS藥液泄漏報警:

HMDS氣體管路加熱系統:

參數記錄功能:

溫度與程序互鎖功能:

容積大?。?50*350*350/450*450*450/600*600*600(mm)可定制

溫度范圍:RT+10-250℃

真空度:≤133pa(1torr)       

控制系統;人機界面+PLC

擱板層數:2層

HMDS控制:可控制HMDS藥液的添加量

真空泵: 渦旋無油泵


不正確的六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理方法
 如果液體的HMDS被直接旋涂在襯底上,HMDS層只能起到物理上的粘附層的作用,并不能改善粘附性;其次,HMDS層在前烘過程中釋放出氨,從襯底附近的進入交聯的光刻膠層中,從而抑制顯影過程。

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